如何正確選擇不同功能的掃描電鏡?掃描電鏡選型指南
掃描電子顯微鏡廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、生物學(xué)、納米技術(shù)、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域,為研究人員提供了觀察和分析微觀結(jié)構(gòu)和表面形貌的有效工具。
針對(duì)不同領(lǐng)域和樣品需求,應(yīng)該如何選擇不同功能的掃描電鏡呢?
我們對(duì)已有的不同功能的掃描電鏡進(jìn)行了盤點(diǎn):
系列 1 場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡
肖特基場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡(Schottky Field Emission Scanning Electron Microscope,Schottky FE-SEM)是一種采用肖特基場(chǎng)發(fā)射電子源的高分辨率掃描電子顯微鏡,可以提供更高的電子束亮度和穩(wěn)定性,用于觀察微觀結(jié)構(gòu)和表面形貌。
第二代場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡,臺(tái)式設(shè)計(jì),防震,在臺(tái)式機(jī)身上獲得接近大型場(chǎng)發(fā)射的性能。優(yōu)秀的低電壓成像能力,可減輕電子束對(duì)樣品的損傷和穿透,較大程度還原樣品的真實(shí)形貌。延續(xù)電鏡能譜一體化設(shè)計(jì),升級(jí)的快速面掃可以即時(shí)顯示所選元素的分布情況,實(shí)時(shí)能譜分析功能大幅提升了檢測(cè)效率。
特點(diǎn)
· 肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍
· 分辨率最高的臺(tái)式電鏡
· 良好的的低電壓成像
· 電鏡能譜一體化設(shè)計(jì)
· 操作簡(jiǎn)單
· 內(nèi)置磁屏蔽和減震系統(tǒng),可放置于任意樓層
SEM-STEM 電子顯微鏡
2023 年推出臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射 SEM-STEM 電子顯微鏡,在較低的加速電壓下,減少了電子束對(duì)樣品的損傷,顯著提高了圖像的襯度。在臺(tái)式掃描電鏡下即可快速獲得高分辨的 BF 像、DF 像、HAADF 像,且支持用戶自定義成像。Pharos STEM 樣品杯為材料領(lǐng)域的研究提供了高效、全面的表征方式。
系列 2 CeB6 燈絲掃描電鏡
CeB6(鈰六硼化物)燈絲掃描電鏡是一種采用CeB6作為電子發(fā)射源的掃描電子顯微鏡。CeB6燈絲具有良好的發(fā)射性能和長(zhǎng)壽命,可提供穩(wěn)定的電子束,用于高分辨率的表面成像和樣品分析。
特點(diǎn)
· 高亮度、低色差 CeB6 燈絲,使用時(shí)長(zhǎng)不低于 1500h
· 無(wú)需噴金
· "全面屏"操作界面
· 不受震動(dòng)、磁場(chǎng)等環(huán)境因素干擾
系列 3 全自動(dòng)掃描電鏡
全自動(dòng)掃描電鏡以掃描電鏡和能譜儀為基礎(chǔ),結(jié)合自動(dòng)控制系統(tǒng)以及強(qiáng)大的數(shù)據(jù)庫(kù)系統(tǒng),可以全自動(dòng)對(duì)雜質(zhì)顆粒進(jìn)行快速識(shí)別、分析和分類統(tǒng)計(jì),為客戶的研發(fā)以及生產(chǎn)提供快速、準(zhǔn)確和可靠的定量數(shù)據(jù)支持。
特點(diǎn)
· 顆粒粒度分布
· 顆粒形貌分析
· 雜質(zhì)成分檢測(cè)
· 高分辨率成像
系列 4 自動(dòng)化專用掃描電鏡
槍擊殘留物(GSR)的分析發(fā)揮著重要的作用。GSR 分析技術(shù)首先基于掃描電子顯微鏡(SEM)的背散射成像,用來掃描樣品和發(fā)現(xiàn) “可疑" 的 GSR 顆粒。一旦發(fā)現(xiàn)可疑的顆粒,使用能譜(EDS)識(shí)別該顆粒的元素。最常見的搜索元素為 Pb,Sb 和 Ba。無(wú)鉛底火的檢測(cè),例如 Ti 和 Zn 也可作為搜索條件進(jìn)行搜索。
DiatomAI™ 利用人工智能的技術(shù),賦能法醫(yī)硅藻檢驗(yàn)系統(tǒng),配合 DiatomScope™ ,實(shí)現(xiàn)了掃描和檢測(cè)的全自動(dòng)化。它是目前市面上可靠、高效、自動(dòng)化程度高的硅藻檢測(cè)解決方案,幫助法醫(yī)在檢測(cè)過程中實(shí)現(xiàn)硅藻的全自動(dòng)檢測(cè),識(shí)別過程全程無(wú)需人工參與。大大縮短了檢測(cè)時(shí)間,提升工作效率。
掃描電鏡樣品制備
1.制樣簡(jiǎn)單 無(wú)需噴金即可觀察不導(dǎo)電樣品
2.掃描電鏡制樣設(shè)備
SEMPrep2 作為新一代的高精密氬離子研磨系統(tǒng),可以滿足研究人員苛刻的研磨需求。集成式多功能截面拋削以及無(wú)損平面拋光系統(tǒng),為 SEM 以及 EBSD 用戶提供制樣助力。
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