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【納米顆粒制備技術(shù)】干法氣溶膠納米打印技術(shù),加速材料研發(fā)進(jìn)程

 更新時(shí)間:2024-05-15 點(diǎn)擊量:414

增材制造的方法,如納米打印可以大大簡(jiǎn)化高比表面積的納米多孔薄膜的制備工藝。這種薄膜材料的應(yīng)用很多,包括電催化、化學(xué)、光學(xué)或生物傳感以及電池和微電子產(chǎn)品制造等。

 

因此,一種基于氣溶膠的直寫(xiě)方法能夠?qū)崿F(xiàn)無(wú)機(jī)納米結(jié)構(gòu)材料的打印直寫(xiě)。

 

印刷涂層的顆粒由 納米粒子發(fā)生器產(chǎn)生,經(jīng)火花燒蝕產(chǎn)生的氣溶膠顆粒其典型粒徑在 20nm 以下,且不含表面活性劑或任何其他有機(jī)添加物質(zhì)。納米粒子生產(chǎn)和印刷沉積的整個(gè)過(guò)程是自動(dòng)化的,不需要進(jìn)行后續(xù)有機(jī)成分的熱處理去除。

 

1.png

 納米印刷沉積系統(tǒng)

 

工作原理

 

VSP-G1 納米粒子發(fā)生器 (VSP-G1) 作為納米粒子的生產(chǎn)源,集成在 VSP-P1 系統(tǒng)中。而用于納米顆粒生產(chǎn)的技術(shù)稱為火花燒蝕(Spark Ablation),在室溫溫度和大氣壓條件下便可實(shí)現(xiàn)多種納米粒子的制備。

 

在氣流中產(chǎn)生納米氣溶膠后,這些顆粒經(jīng)低真空環(huán)境下的噴嘴加速并通過(guò)撞擊沉積的方式沉積在多種類(lèi)型的基材上。沉積的驅(qū)動(dòng)力是沉積室和 VSP-G1 系統(tǒng)(噴嘴上游)之間的壓力差。通過(guò) XYZ 載物臺(tái)控制、顯微鏡攝像頭模塊和直觀的用戶界面可以打印沉積特定的路徑,從而可以控制實(shí)驗(yàn)參數(shù),進(jìn)行由納米粒子組成的圖案繪制。

 

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